S526
X線光電子装置用前処理装置 (VersaPrep)
1. 形式
アルバック・ファイ社製 Versaprep
2. 原理および特徴
X線光電子装置（XPS）用前処理装置は、大気暴露することなくXPS測定に最適な前処理を行う装置です。
- (1) 大気圧のガス（H2、O2、CO、NO、Ar）を指定温度（室温〜500℃）で反応できる
- (2) 真空中で800℃まで加熱できる
- (3) 加熱した試料を急速冷却（-150℃）して短時間で室温測定ができる
3. 主な性能、仕様、付属品
| 各種性能ホルダ | 前処理加熱専用（室温〜800℃、XPS測定は室温） |
|---|---|
| 前処理ガス反応専用（室温〜500℃、XPS測定は室温） | |
| 測定時加熱冷却専用（-120℃〜500℃） | |
| 冷却ユニット | 前処理室：-150℃まで、XPS測定時：-120℃まで |
| 粉末試料用冶具 | テープ等を使わずに粉体を導入可能 |
| 反応ガス種 | Ar、H2(1%)/Ar、O2(20%)/Ar、NO（0.5%）/Ar、CO(0.1%)/Ar、その他ガスは要相談 |
| 反応ガス圧 | 0.1〜1気圧 |
| ガス流量調整 | 10〜200 sccm、各種ガスを混合可能 |
| 大気非暴露処理 | Arグローブボックスから真空を経て導入可能※ |
※大気非暴露時はXPSの別のポートを利用して導入します。
4. 試料の形状、サイズ
固体（10×10×3 mm以下）、粉末や揮発性材料は要相談
5. 分析依頼時の留意点
事前に実験試料の詳細情報を提供いただき安全に運用できる範囲で実験計画のご相談をお願いしております
6. 応用分野と分析例
| (1) 触媒分析 | 酸化還元処理、CO/NOガス反応 |
|---|---|
| (2) 標準試料作成 | 大気中で不安定な酸化物の作成 |
| (3) 表面クリーニング | 加熱による吸着水除去 |
| (4) 揮発性成分評価 | 大気圧冷却で水分の装置導入 |
| (5) 粉末試料分析 | CNTや無機微粒子等、成形性の悪い材料の加熱実験 |
7. 関連技術資料
[前処理装置技術資料]
[関連装置技術資料]
