S1405

大気非曝露冷却クロスセクションポリッシャ(IB-09020CP)

1. 型式

日本電子株式会社製クロスセクションポリッシャ IB-09020CP

図：装置概観

2. 原理および特徴

クロスセクションポリッシャは、試料面上にセットされた遮蔽板にイオンビームを垂直に照射し、イオン照射を受けエッチングされる領域と、遮蔽板で遮蔽される領域の境界に沿って断面を形成させる試料作製装置です。機械的な応力をかけずに1mmφ程度の面積の断面を形成できる特徴があります。

大気非曝露冷却クロスセクションポリッシャ(IB-09020CP)は、これに大気非曝露機構と試料冷却機構を組み込むことで、大気非曝露環境下での試料調製を行うことができ、共通のトランスファーベッセルを用いて、導電膜コーティング・SEM-EDS分析を行うことができます。試料を冷却することで、熱ダメージの少ない断面試料を作製でき、断面加工状況がCCDズームカメラでリアルタイムにモニターで確認できます。

3. 主な性能、仕様、付属品

加工イオン	アルゴン
イオン加速電圧	2～8kV
イオンビーム径半値幅	500μm（加速電圧：6kV、試料：Si）
ミリングスピード	300μm/H （シリコン基板換算、突出量：100μm、2時間平均値、加速電圧8kV）
試料移動範囲	X軸±10mm、Y軸±3mm
試料角度調整範囲	±5°
断面位置決め精度	10～20μm程度（光学顕微鏡下）
冷媒	液体窒素
ホルダー冷却温度	-100℃以下
試料冷却保持時間	～10時間
パージ用ガス	アルゴン