TOF-SIMSによる残存シラノールの分析

ガラス基板やシリコンウエハ上に残存するシラノール量は、含臭素ケイ素化合物で処理し、TOF-SIMS測定を行うことにより調べることができます。

測定の結果得られた2種類のイオン種について次式により、規格化2次イオン検出強度を算出します。

水の弾きが悪い試料（2）の2次イオン質量スペクトルを図1（CH₄SiBr⁺イオン）と図2（Br^-）に、また試料（1）、（2）のデータ処理結果を図3に示しました。

図3から試料間で残存シラノール量に顕著な差が認められ、試料（1）と比較して試料（2）の方がOH基の多いことが推察されます。また、2ポイントずつの測定におけるバラツキも小さいことが分かります。

この方法は残存するシラノールの絶対量は算出できませんが、相対比較により試料間の差異を調べることができます。

図1：2次イオン質量スペクトル（CH4SiBr+m/z=123）

図2：2次イオン質量スペクトル（Br-m/z=79）

図3：規格化2次イオン検出強度（バーグラフ）