M1303
電子後方散乱回折(EBSD)
Electron BackScattered Diffraction Pattern
1. 特徴
走査型電子顕微鏡(SEM)の検出器の一つであり、試料の表面(50nm程度)の結晶方位をサブミクロンのスケールでマッピングすることができます。
2. 原理、概念図
図1:概念図
- 1〜30kVで加速された電子を細く絞り、結晶性の試料上を走査した際に発生する反射電子の回折パターン(EBSDパターン)をCCDカメラで検出します。
- 試料の各点毎のEBSDパターンを解析し、結晶方位のマッピングとして記録します。
3. 性能と仕様
型式 | TSL社製 OIM |
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空間分解能 | 10nm以上(条件による) |
測定範囲 | 500nm〜5mm程度 |
4. 試料の形状、サイズ
固体、外径12.5mmφ以内、高さ10mm以内
5. 分析依頼時の留意点
真空中で電子を照射します。その条件下で試料が安定である必要があります。
6. 測定データ例
図2:結晶方位マップと代表的な粒子の格子モデル 試料:Al2O3
7. 適用例
- 金属、半導体などの結晶同定
- 金属、半導体などの結晶方位、粒界の解析