M0901
トリプルビーム(FIB-SEM-Ar)複合装置
1. メーカー・型式
SIIナノテクノロジー製 XVision200TB
2. 原理・特徴
FIB、SEM、アルゴンイオン銃が全て同一位置にビームが交差している。(下図参照)
30kVで加速されたGaイオンにより各種材料のFIB加工を行い、加工面をSEMで観察することができる。さらに、低加速のアルゴンイオンを照射することで、より精密な加工が可能である。
装置概略図
3. 性能
加速電圧 | 1〜30kV |
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分解能 | 4nm |
加速電圧 | 1〜30kV |
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分解能 | 3nm |
熱電界放射型電子銃 | GEMINIcolumn (ZEISS製) |
検出器 |
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加速電圧 | 1kV |
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ビーム電流 | 10nA |
4. 付属装置・ソフト
- ガス供給システム(C、Pt)
- マイクロプロービング機能
- 8インチウエハ対応サンプルホルダー
- TEM膜厚管理ソフト
- FIB-SEM(Cut&See)
- 3D像構築ソフト
5. 応用分野
- Si半導体や化合物半導体のTEM試料作製
- 欠陥や転移の入り易い金属のTEM試料作製
- 樹脂中の無機フィラーの分散確認(Cut&See→3D像構築)